13/18
下一頁
繞過EUV光刻機造出2nm晶片！ASML萬萬沒想到，制裁來得如此之快
13/18
這時候，ASML的CEO可能開始後悔當初不多點分享了。佳能發布了一款名為FPA-1200NZ2C的NIL半導體製造設備，可以製造出最小線寬為14nm的圖案，相當於5nm工藝。更有甚者，在改進掩模之後，將可以製造2nm晶片！這就好比你的老闆突然說：「恭喜你，你加薪了，薪水是原來的一半！」是不是感覺非常的「興奮」呢？
呂純弘 • 15K次觀看
呂純弘 • 22K次觀看
奚芝厚 • 3K次觀看
歐悅雯 • 2K次觀看
歐悅雯 • 3K次觀看
呂純弘 • 77K次觀看
連飛靈 • 8K次觀看
呂純弘 • 6K次觀看
歐悅雯 • 2K次觀看
劉紈功 • 32K次觀看
呂純弘 • 2K次觀看
舒黛葉 • 2K次觀看
管輝若 • 2K次觀看
呂純弘 • 4K次觀看
呂純弘 • 76K次觀看
劉紈功 • 4K次觀看
歐悅雯 • 2K次觀看
呂純弘 • 6K次觀看
呂純弘 • 47K次觀看
歐悅雯 • 1K次觀看
呂純弘 • 11K次觀看
呂純弘 • 13K次觀看
劉紈功 • 5K次觀看
管輝若 • 3K次觀看